英飞凌率先开发全球首项300 mm氮化镓功率半导体技术,推动行业变革
• 凭借这一突破性的 300 mm GaN技术,英飞凌将推动GaN市场快速增长• 利用现有的大规模300 mm硅制造设施,英飞凌将最大化GaN生
2024-09-13 10:58:17• 凭借这一突破性的 300 mm GaN技术,英飞凌将推动GaN市场快速增长• 利用现有的大规模300 mm硅制造设施,英飞凌将最大化GaN生
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